一種以濺射ZnO為電子傳輸層的鈣鈦礦型太陽能電池
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201420631749.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN204167368U | 公開(公告)日 | 2015-02-18 |
| 申請公布號 | CN204167368U | 申請公布日 | 2015-02-18 |
| 分類號 | H01L51/42(2006.01)I;H01L51/44(2006.01)I;H01L51/46(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 梁祿生;陳偉中;王保增;蔡龍華;陳凱武;蔡耀斌;白華;田清勇;范斌 | 申請(專利權(quán))人 | 昆山惟華光能有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 廈門南強之路專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 馬應(yīng)森 |
| 地址 | 361102 福建省廈門市翔安區(qū)火炬高新區(qū)臺灣科技企業(yè)育成中心W403 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種以濺射ZnO為電子傳輸層的鈣鈦礦型太陽能電池,涉及太陽能電池。從下至上依次設(shè)有銦錫氧化物玻璃襯底、ZnO電子傳輸層、CH3NH3PbI3層、2,2',7,7'-四[N,N-二(4-甲氧基苯基)氨基]-9,9'-螺二芴空穴傳輸層和金屬背電極層;金屬背電極層為Au背電極層或Ag背電極層。銦錫氧化物玻璃襯底的厚度可為100~150nm。所述ZnO電子傳輸層的厚度可為20~120nm。CH3NH3PbI3層的厚度可為20~120nm。2,2',7,7'-四[N,N-二(4-甲氧基苯基)氨基]-9,9'-螺二芴空穴傳輸層的厚度可為40~60nm。金屬背電極層的厚度可為60~150nm。 |





