臺面保護門極-陰極PN結(jié)的可控硅芯片結(jié)構(gòu)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201320272788.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN203325911U | 公開(公告)日 | 2013-12-04 |
| 申請公布號 | CN203325911U | 申請公布日 | 2013-12-04 |
| 分類號 | H01L29/74(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 徐永平;何春海;王仁書;劉紀(jì)云 | 申請(專利權(quán))人 | 揚州中芯晶來半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 揚州蘇中專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 揚州中芯晶來半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 地址 | 225009 江蘇省揚州市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)鴻大路29號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 臺面保護門極-陰極PN結(jié)的可控硅芯片結(jié)構(gòu),屬于可控硅芯片設(shè)計技術(shù)領(lǐng)域。包括硅襯底片,其特征是,所述硅襯底片上設(shè)有氧化層、玻璃鈍化臺面槽和門極引線孔、陰極引線孔,玻璃鈍化臺面槽內(nèi)設(shè)有鈍化玻璃層。所述硅襯底片為在N-單晶硅片上有完成隔離P+區(qū)、陽極P區(qū)和門極P區(qū)擴散以及陰極N+區(qū)。所述陰極N+區(qū)與門極P區(qū)間周邊表面PN結(jié)設(shè)置在所述玻璃鈍化臺面槽內(nèi)。本實用新型的效果是通過新的可控硅器件芯片結(jié)構(gòu)設(shè)計,解決了芯片的IGT、VGT等參數(shù)的問題,提高了成品率以及后道封裝的適應(yīng)性和可靠性,增加了通態(tài)電流,降低了通態(tài)壓降。同時采用這樣的結(jié)構(gòu),可減小芯片面積,提高硅片的利用率,降低芯片生產(chǎn)成本。 |





