一種蒸鍍膜厚校準(zhǔn)裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202123176500.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN216738501U 公開（公告）日 2022-06-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN216738501U 申請(qǐng)公布日 2022-06-14
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 岳小非;王煦;蔡長(zhǎng)生;張悅;戴雷;蔡麗菲 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 四川阿格瑞新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 -
地址 620564四川省眉山市仁壽縣視高街道騰飛大道三段1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種蒸鍍膜厚校準(zhǔn)裝置，包括水晶晶振片、振蕩器、控制系統(tǒng)、電源、蒸發(fā)源、校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)和蒸鍍室；所述蒸發(fā)源和所述水晶晶振片均位于所述蒸鍍室內(nèi)，所述水晶晶振片位于所述蒸發(fā)源的上方；所述水晶晶振片與所述振蕩器電性連接，所述振蕩器與所述控制系統(tǒng)電性連接；所述校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)與所述水晶晶振片連接，所述校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)與所述控制系統(tǒng)電性連接，所述控制系統(tǒng)和所述蒸發(fā)源均與所述電源電性連接。本實(shí)用新型的蒸鍍膜厚校準(zhǔn)裝置，能夠調(diào)節(jié)水晶晶振片與蒸發(fā)源之間的距離，保證固定頻率變化的量不變，進(jìn)而保證實(shí)際計(jì)算的蒸鍍速率不變，降低最終得到的實(shí)際膜厚的誤差。