一種直流支撐電容器用漸變式方阻金屬化薄膜
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022684227.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN213483563U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-06-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213483563U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-18 |
| 分類號(hào) | H01G4/015（2006.01）I;H01G4/005（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 鐘秀珍;李根;陳有華 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 佛山易事達(dá)電容材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 佛山卓就專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 陳雪梅 |
| 地址 | 528000廣東省佛山市禪城區(qū)東鄱南路4號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型屬于電器元件技術(shù)領(lǐng)域，尤其為一種直流支撐電容器用漸變式方阻金屬化薄膜，包括第一薄膜和第二薄膜，第一基膜的上表面分別對(duì)稱蒸鍍有第一加厚區(qū)金屬鍍層、第一漸變區(qū)金屬鍍層和第一普通區(qū)金屬鍍層，第一薄膜中間設(shè)有無(wú)金屬鍍層的留邊，第二基膜的上表面蒸鍍有第二加厚區(qū)金屬鍍層，第二基膜的上表面兩邊分別對(duì)稱蒸鍍有第二漸變區(qū)金屬鍍層和第二普通區(qū)金屬鍍層，第二薄膜兩邊設(shè)有無(wú)金屬鍍層的留邊，第二基膜的金屬鍍層與第一基膜固定連接。第一漸變區(qū)金屬鍍層和第二漸變區(qū)金屬鍍層的區(qū)域方阻逐步變化，使得電容器產(chǎn)品上的電流均勻分布，有效克服階梯式方阻金屬化膜因鍍層厚度一致，方阻相同，電流載流量和自愈能力不能有效兼顧的難題。 |
