一種蒸發(fā)冷卻微結(jié)構(gòu)的制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110479607.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113060701A | 公開(公告)日 | 2021-07-02 |
| 申請公布號 | CN113060701A | 申請公布日 | 2021-07-02 |
| 分類號 | B81C1/00(2006.01)I | 分類 | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
| 發(fā)明人 | 徐輝 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州華易航動力科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州樂贏知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王悅 |
| 地址 | 215400江蘇省蘇州市太倉市大連東路36號工業(yè)園區(qū)12號A3區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種蒸發(fā)冷卻微結(jié)構(gòu)的制備方法,包括以下步驟:在基片上表面電沉積一層第一金屬,形成沉積層;將沉積層的表面進(jìn)行精密拋磨,同時(shí),保證一定厚度的沉積層;經(jīng)拋磨后的沉積層表面涂覆一層光刻膠;將基片放置在光刻機(jī)載物臺上,用曝光掩膜板進(jìn)行曝光;將曝光處理后的基片放入顯影液中進(jìn)行顯影,顯影后進(jìn)行清洗、干燥;干燥后基片的沉積層的表面沉積一層第二金屬;再用溶劑對多余的光刻膠進(jìn)行溶解;在光刻膠溶解的位置中加入刻蝕液,待溶解至指定位置倒掉多余的刻蝕液,再經(jīng)清洗、干燥,得到微結(jié)構(gòu)。本發(fā)明采用電沉積方法,實(shí)現(xiàn)高效、快速加工大面積的微結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn);能夠?qū)崿F(xiàn)在同一個(gè)基片上同時(shí)加工出多個(gè)微結(jié)構(gòu)。 |





