真空硒化裝置和真空硒化的方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201510712505.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN105256285B | 公開(公告)日 | 2018-10-23 |
| 申請公布號 | CN105256285B | 申請公布日 | 2018-10-23 |
| 分類號 | C23C14/58;H01L31/032 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 常有軍;黃福林;劉遠宏 | 申請(專利權)人 | 河北曹妃甸漢能薄膜太陽能有限公司 |
| 代理機構 | 北京清亦華知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 河北曹妃甸漢能薄膜太陽能有限公司 |
| 地址 | 063200 河北省唐山市曹妃甸工業(yè)區(qū)市政大廈5樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提出了一種真空硒化裝置和真空硒化的方法。該裝置包括:本體,所述本體內(nèi)限定出真空硒化空間;硒蒸汽回收單元,所述硒蒸汽回收單元設置在所述本體的內(nèi)壁上;以及真空泵,所述真空泵設置在所述本體的外壁上,并且所述真空泵與所述硒蒸氣回收單元相連。由此,可以將硒蒸汽回收單元與真空泵分開設置,進而可以避免對真空泵進行頻繁的周期性清理維護,進而可以提高該裝置的生產(chǎn)效率。 |





