一種沉浸式濕法刻蝕裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023214082.X 申請日 -
公開（公告）號 CN213660359U 公開（公告）日 2021-07-09
申請公布號 CN213660359U 申請公布日 2021-07-09
分類號 H01L21/67（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 蔣新;張帆;施利君;宋金林 申請（專利權）人 蘇州晶洲裝備科技有限公司
代理機構 蘇州根號專利代理事務所（普通合伙） 代理人 呂正剛
地址 215500江蘇省蘇州市常熟市辛莊鎮(zhèn)光華環(huán)路32號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種沉浸式濕法刻蝕裝置，包括盛液托盤，在所述盛液托盤內沿其長度方向設置有若干個傳動輥，所述盛液托盤的內壁上可移動地設置有液位傳感器，所述液位傳感器可沿豎直方向移動，所述液位傳感器的設置高度高于傳動輥上銅基板的高度，在所述傳動輥的上下分別設置有與供液管路相連的若干個送液液刀。本申請能夠在保證銅的刻蝕均勻性、形成相對較小坡度角的同時，可有效加快反應速率，同時可有效杜絕銅表面的氧化反應，保證最終產品質量。