晶圓的工藝故障預(yù)測方法、裝置、電子設(shè)備及存儲介質(zhì)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110873238.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113553795A | 公開(公告)日 | 2021-10-26 |
| 申請公布號 | CN113553795A | 申請公布日 | 2021-10-26 |
| 分類號 | G06F30/33(2020.01)I;G06F30/27(2020.01)I | 分類 | 計算;推算;計數(shù); |
| 發(fā)明人 | 林天營;孫旭;陳曉剛 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州海光芯創(chuàng)光電科技股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 馬迪 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市中國(江蘇)自由貿(mào)易試驗區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)平勝路1號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明實施例公開了一種晶圓的工藝故障預(yù)測方法、裝置、電子設(shè)備及存儲介質(zhì)。該方法包括根據(jù)工藝控制監(jiān)控單元反饋的檢測參數(shù)確定檢測參數(shù)矩陣;將檢測參數(shù)矩陣輸入工藝故障預(yù)測模型;獲取工藝故障預(yù)測模型輸出的預(yù)測結(jié)果矩陣;晶圓包括器件放置區(qū),器件放置區(qū)的中心、器件放置區(qū)的內(nèi)切N邊形的頂點、以及頂點與中心的連線的中點為基準點,晶圓還包括多個光罩區(qū),基準點所在的光罩區(qū)設(shè)置有工藝控制監(jiān)控單元;預(yù)測結(jié)果矩陣包括多個第一元素,晶圓的制備過程包括多道工藝步驟,不同第一元素用于表征不同工藝步驟中出現(xiàn)故障的概率。本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案可減少晶圓檢測的時間、以及實現(xiàn)對晶圓制備過程中各工藝步驟進行工藝故障預(yù)測。 |





