一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010809812.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN114078746A | 公開(公告)日 | 2022-02-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114078746A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-22 |
| 分類號(hào) | H01L21/768(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 江濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 中芯南方集成電路制造有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京市一法律師事務(wù)所 | 代理人 | 劉榮娟 |
| 地址 | 200120上海市浦東新區(qū)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)張江路18號(hào)3號(hào)樓5樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┌雽?dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法,所述方法包括:提供襯底,所述襯底上形成有第一介質(zhì)層以及貫穿所述第一介質(zhì)層的金屬連接結(jié)構(gòu);在所述第一介質(zhì)層表面和所述金屬連接結(jié)構(gòu)表面形成第二介質(zhì)層;在所述第二介質(zhì)層中形成溝槽,所述溝槽暴露所述金屬連接結(jié)構(gòu)的表面;使用堿性清洗溶液清洗所述溝槽;鈍化處理所述暴露出的金屬連接結(jié)構(gòu)表面。本申請(qǐng)所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法,使用堿性溶液來清洗所述溝槽,不會(huì)腐蝕或損傷所述金屬連接結(jié)構(gòu);進(jìn)一步地,清洗完成后對(duì)所述金屬連接結(jié)構(gòu)進(jìn)行鈍化處理來進(jìn)行保護(hù),可以提高器件可靠性。 |





