一種導(dǎo)流盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911324841.7 申請日 -
公開（公告）號 CN111001301B 公開（公告）日 2021-10-12
申請公布號 CN111001301B 申請公布日 2021-10-12
分類號 B01D63/00;C02F1/44 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 王如順;嚴(yán)濱;周靜;袁志群;鐘汀梁;馬志鵬 申請（專利權(quán)）人 優(yōu)尼索膜技術(shù)（廈門）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京高沃律師事務(wù)所 代理人 韓雪梅
地址 361101 福建省廈門市翔安區(qū)市頭路98號四層B室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種導(dǎo)流盤。該導(dǎo)流盤中，在圓形導(dǎo)流盤主體上的第一環(huán)形區(qū)域的正面和反面均沿周向均勻分布有多個樣條凸起，每個樣條凸起均從第一環(huán)形區(qū)域的內(nèi)邊界向外延伸至第一環(huán)形區(qū)域的外邊界；位于同一面的任意相鄰的兩個樣條凸起之間形成流體通道；流體通道任意兩個位置的法向截面的截面積相等；在圓形導(dǎo)流盤主體上的第二環(huán)形區(qū)域內(nèi)的正面和反面均分布有多圈凸點(diǎn)；多圈凸點(diǎn)所在圓為同心圓；每圈凸點(diǎn)的所在位置均為所在圓周上流速最大的位置；第一環(huán)形區(qū)域的內(nèi)邊界的半徑大于或等于第二環(huán)形區(qū)域的外邊界的半徑。本發(fā)明能夠使導(dǎo)流盤內(nèi)部流場分布均勻且提高導(dǎo)流盤內(nèi)部湍流能量。