一種真空鍍膜裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020307349.0 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN213295490U | 公開（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申請公布號 | CN213295490U | 申請公布日 | 2021-05-28 |
| 分類號 | C23C14/54(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 申屠江民;祝宇;王連彬;龔陽;楊雄波 | 申請（專利權(quán)）人 | 浙江萊寶科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 321016浙江省金華市婺城區(qū)涌雪街333號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供一種真空鍍膜裝置,包括真空鍍膜的腔體、磁鋼、靶材、中心加熱器與鍍膜小車，所述腔體構(gòu)造出一立方體空間，所述靶材、中心加熱器與鍍膜小車均設(shè)置于所述立方體空間內(nèi)，所述磁鋼設(shè)置于所述腔體的外壁上，所述靶材設(shè)置于所述腔體的內(nèi)壁的側(cè)壁上，所述靶材與磁鋼在腔體上的投影相對應(yīng)。所述中心加熱器懸掛于腔體內(nèi)壁的上壁上，所述鍍膜小車上搭載有基片，所述基片置于所述中心加熱器的一側(cè)。在鍍膜過程采用一系列溫控手段，提升鍍膜基片在磁控濺射過程中的溫度均勻性，同時(shí)有利于減少成膜過程中出現(xiàn)的薄膜表面缺陷，確保鍍膜的穩(wěn)定性與均勻性。?? |
