一種真空鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020100530.4 申請日 -
公開（公告）號 CN212983041U 公開（公告）日 2021-04-16
申請公布號 CN212983041U 申請公布日 2021-04-16
分類號 C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 申屠江民;王連彬;祝宇;龔陽;葉華輝 申請（專利權(quán)）人 浙江萊寶科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 321016浙江省金華市婺城區(qū)涌雪街333號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜的腔體、磁鋼、靶材、中心加熱器與鍍膜小車，所述腔體構(gòu)造出一立方體空間，所述靶材、中心加熱器與鍍膜小車均設(shè)置于所述立方體空間內(nèi)，所述磁鋼設(shè)置于所述腔體的外壁上，所述靶材設(shè)置于所述腔體的內(nèi)壁的側(cè)壁上，所述靶材與磁鋼在腔體上的投影相對應(yīng)。所述中心加熱器懸掛于腔體內(nèi)壁的上壁上，所述鍍膜小車上搭載有基片，所述基片置于所述中心加熱器的一側(cè)，并設(shè)置于所述靶材上方50?100mm的范圍內(nèi)。在所述腔體前段部分還設(shè)計有一保溫腔結(jié)構(gòu)，所述保溫腔的溫度條件和所述被濺射鍍膜基片所處的溫度條件保持一致。使得整個基片的前端與后端濺射鍍膜的膜層厚度、膜層透光率、膜層熱穩(wěn)定性與方阻也保持一致。??