絕緣結(jié)構(gòu)和鍍膜設(shè)備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202121066304.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214937780U | 公開(公告)日 | 2021-11-30 |
| 申請公布號 | CN214937780U | 申請公布日 | 2021-11-30 |
| 分類號 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 史建國;龔妙峰;曾永華 | 申請(專利權(quán))人 | 天津旗濱節(jié)能玻璃有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市世紀(jì)恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人 | 陳文斌 |
| 地址 | 517000廣東省河源市東源縣藍(lán)口鎮(zhèn)土坡、角塘、車頭山村 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型公開一種絕緣結(jié)構(gòu)和鍍膜設(shè)備,其中,絕緣結(jié)構(gòu)用于鍍膜設(shè)備,鍍膜設(shè)備內(nèi)設(shè)有濺射底板和皮帶蓋板,絕緣結(jié)構(gòu)夾設(shè)于濺射底板和皮帶蓋板之間。絕緣結(jié)構(gòu)包括絕緣主體和絕緣凸塊,絕緣主體的一表面形成有凹槽,絕緣凸塊設(shè)于凹槽的槽底壁,且絕緣凸塊至少部分顯露于凹槽的槽口。本申請?zhí)峁┑慕^緣結(jié)構(gòu)可以增大金屬分子導(dǎo)通濺射底板與皮帶蓋板所需覆蓋的面積,延長絕緣結(jié)構(gòu)的作用時間,提高絕緣效果和產(chǎn)品的合格率。 |





