一種超聲波成像設備及成像裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121603203.1 申請日 -
公開（公告）號 CN215894490U 公開（公告）日 2022-02-22
申請公布號 CN215894490U 申請公布日 2022-02-22
分類號 G01N29/06（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 張瑞 申請（專利權）人 艾因蒂克科技（上海）有限公司
代理機構 北京英特普羅知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 黃勝波
地址 201814上海市嘉定區(qū)銀龍路258弄9號16幢1、2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及超聲波應用技術領域，公開了一種超聲波成像設備及成像裝置，包括：超聲面陣，用于向目標物體發(fā)送超聲波，并接收由目標物體對超聲波進行反射所形成的反射波；觸發(fā)電路，與超聲面陣連接，用于向超聲面陣發(fā)送觸發(fā)信號；接收電路，與超聲面陣連接，用于獲取超聲面陣接收到的反射波并將其轉(zhuǎn)為反射信號；成像電路，與接收電路連接，用于對反射信號進行低分辨成像處理得到低分辨圖像，并對低分辨圖像中的異常區(qū)域進行高分辨處理得到高分辨圖像，及將異常區(qū)域替換為高分辨圖像得到目標圖像。本實用新型提高了成像效率，并且在降低圖像獲取的算力消耗的同時，還保證了出現(xiàn)異常部位的圖像的分辨率。