一種帶耦合劑注入功能的延時塊

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921942225.3 申請日 -
公開（公告）號 CN211148535U 公開（公告）日 2020-07-31
申請公布號 CN211148535U 申請公布日 2020-07-31
分類號 G01N29/24(2006.01)I;G01N29/28(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 鄧小娜 申請（專利權）人 艾因蒂克科技（上海）有限公司
代理機構 上海昱澤專利代理事務所（普通合伙） 代理人 孟波
地址 201800 上海市嘉定區(qū)銀龍路258弄9號16幢1、2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種帶耦合劑注入功能的延時塊，包括陣列探頭，陣列探頭包括探頭上部和探頭下部，探頭下部為中空的圓柱形，探頭上部為圓形，探頭下部的直徑小于探頭上部的直徑，探頭上部設有導流系統(tǒng)，導流系統(tǒng)凹陷設于探頭上部的表面。采用上述技術方案制成了一種使用方便且更加高效的帶耦合劑注入功能的延時塊。耦合劑可以由探頭內(nèi)部縫隙擠入延時塊的耦合面，可以配合自動化裝置實現(xiàn)自動化涂敷耦合劑，減少了耦合劑的使用量，并降低了內(nèi)部耦合不良的概率。??