一種銅銦鎵硒鍍膜設備的真空腔室

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910556740.6 申請日 -
公開（公告）號 CN110344019A 公開（公告）日 2019-10-18
申請公布號 CN110344019A 申請公布日 2019-10-18
分類號 C23C14/56;C23C14/24;C23C14/06;H01L31/18 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 袁正 申請（專利權）人 北京知虹科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 518000 廣東省深圳市前海深港合作區(qū)前灣一路1號A棟201室（入駐深圳市前海商務秘書有限公司）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種銅銦鎵硒鍍膜設備的真空腔室，包括腔體、前門板和背板，所述腔體的前端和后端分別開設有第一開口和第二開口，腔體內(nèi)設有隔板，隔板將腔體分隔為腔體上部和腔體下部，腔體上部安裝有卷繞裝置，腔體下部安裝有加熱裝置和蒸發(fā)源，且腔體與真空系統(tǒng)連接；前門板可開合地設置在腔體的前端，背板可開合地設置在腔體的后端，前門板與腔體之間設有第一密封件，背板與腔體之間設有第二密封件。該真空腔室在工作狀態(tài)下，能夠滿足高真空的工藝要求，在非工作狀態(tài)下，所述真空腔室能夠滿足檢修的工藝要求。