一種純鈮腔內(nèi)表面鍍鈮三錫薄膜的方法及真空爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911314280.2 申請日 -
公開（公告）號 CN111074208B 公開（公告）日 2021-04-06
申請公布號 CN111074208B 申請公布日 2021-04-06
分類號 C23C14/16(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉佰奇;董超;沙鵬;翟紀元 申請（專利權(quán)）人 上海三井光中真空設(shè)備股份有限公司
代理機構(gòu) 北京君尚知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 司立彬
地址 100049北京市石景山區(qū)100049
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種純鈮腔內(nèi)表面鍍鈮三錫薄膜的方法及真空爐。本發(fā)明的真空爐特征在于，包括由外真空系統(tǒng)與內(nèi)真空系統(tǒng)構(gòu)成的雙真空結(jié)構(gòu)；其中，外真空系統(tǒng)內(nèi)設(shè)有用于對內(nèi)真空系統(tǒng)加熱的加熱器以及用于測量內(nèi)真空系統(tǒng)設(shè)定區(qū)域溫度的測溫探頭；所述內(nèi)真空系統(tǒng)內(nèi)設(shè)有一鈮腔吊裝裝置，該旋轉(zhuǎn)吊裝裝置用于連接待鍍膜的鈮腔和錫坩堝，并通過傳動機構(gòu)對鈮腔進行循環(huán)轉(zhuǎn)動。通過該真空爐，可在純鈮腔內(nèi)鍍一層純凈、完全覆蓋、均勻分布的鈮三錫薄膜，從而實現(xiàn)鈮三錫在超導(dǎo)腔上的應(yīng)用。??