基于正性光刻膠的鎳陽模具制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510015397.6 申請日 -
公開（公告）號 CN104597719B 公開（公告）日 2016-09-14
申請公布號 CN104597719B 申請公布日 2016-09-14
分類號 G03F7/20(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 郭哲;劉祝凱;宋嬌陽;許斌 申請（專利權(quán)）人 北京同方華光系統(tǒng)工程有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京億騰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 代理人 北京同方生物芯片技術(shù)有限公司;北京同方光盤股份有限公司
地址 101500 北京市密云縣密云經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)水源路4號清華同方軟件信息綜合樓西二層202室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例涉及一種基于正性光刻膠的鎳陽模具制作方法，方法包括：在襯底的正面均勻旋涂正性光刻膠；利用目標(biāo)圖案的負(fù)性掩膜板對襯底的正性光刻膠進(jìn)行曝光，顯影后，得到圖形化的光刻膠；在具有圖形化的光刻膠的襯底上濺鍍鉻，形成均勻鉻層圖案；對鉻層圖案進(jìn)行增粘劑六甲基二硅胺蒸鍍，用以增強(qiáng)鉻層圖案與光刻膠的粘附性，并在鉻層圖案上均勻旋涂正性光刻膠；利用鉻層圖案對襯底上的鉻層圖案上的光刻膠進(jìn)行曝光，顯影后，得到鉻層圖案的光刻膠；對鉻層圖案的光刻膠進(jìn)行表面金屬化；通過微電鑄對金屬化后的鉻層圖案的光刻膠進(jìn)行金屬鎳陽模電鑄，得到鎳陽模具。本申請鎳陽模具的制作工藝簡便，去膠方便，同時(shí)避免了鎳陽模具邊緣翹起。