具有旋轉(zhuǎn)交換雙工件臺(tái)的光刻裝置的曝光方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110067156.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112835271A | 公開（公告）日 | 2021-05-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112835271A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-25 |
| 分類號(hào) | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 顧崢;伍強(qiáng);李艷麗 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海集成電路裝備材料產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 張磊;吳世華 |
| 地址 | 201800上海市嘉定區(qū)葉城路1288號(hào)6幢JT2216室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種具有旋轉(zhuǎn)交換雙工件臺(tái)的光刻裝置的曝光方法，所述光刻裝置包括曝光單元，所述曝光單元包括測量工位和曝光工位，所述測量工位執(zhí)行步驟包括第一測量步驟和第二測量步驟；所述曝光工位執(zhí)行步驟包括第一曝光步驟和第二曝光步驟；其中，所述第一曝光步驟包括曝光前準(zhǔn)備、所述第一或第二工件臺(tái)的對(duì)準(zhǔn)；所述第二曝光步驟包括對(duì)所述待處理晶圓執(zhí)行曝光工藝；所述第一及第二工件臺(tái)并行作業(yè)，同步執(zhí)行所述第一測量步驟與所述第一曝光步驟；或，同步執(zhí)行所述第二測量步驟與所述第二曝光步驟，從而提高曝光精度及優(yōu)化產(chǎn)能瓶頸。?? |
