一種硅片檢測機構及鍍膜設備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202022887834.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN213459649U | 公開(公告)日 | 2021-06-15 |
| 申請公布號 | CN213459649U | 申請公布日 | 2021-06-15 |
| 分類號 | H01L21/66(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 孫津;劉恩華;張晨鑫;姜大俊 | 申請(專利權)人 | 鹽城阿特斯陽光能源科技有限公司 |
| 代理機構 | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 胡彬 |
| 地址 | 224000江蘇省鹽城市鹽城經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)漓江路66號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及太陽能電池生產(chǎn)技術領域,公開一種硅片檢測機構及鍍膜設備。該硅片檢測機構包括傳輸組件、檢測組件和轉移組件,傳輸組件用于承接并傳輸?shù)拇兡す杵?,檢測組件位于傳輸組件的上方,檢測組件能夠檢測傳輸組件上的待鍍膜硅片的表面的反射率,轉移組件與檢測組件電連接,轉移組件被配置為根據(jù)檢測組件的檢測結果將待鍍膜硅片轉移至對應的石英舟內(nèi)。本實用新型提供的硅片檢測機構,轉移組件能夠根據(jù)檢測組件的檢測結果將待鍍膜硅片轉移至對應的石英舟內(nèi),以將待鍍膜硅片分類,每個石英舟對應一種鍍膜工藝參數(shù),每個待鍍膜硅片均能在與其表面的反射率相匹配的工藝參數(shù)下進行鍍膜處理,保證了硅片表面的鍍膜效果,產(chǎn)品質(zhì)量高。 |





