壓附裝置的第三承載臺(tái)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023157391.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN216054587U 公開(kāi)(公告)日 2022-03-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN216054587U 申請(qǐng)公布日 2022-03-15
分類號(hào) H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;H01L33/48(2010.01)I;B05C9/02(2006.01)I;B05C9/14(2006.01)I;B05C11/08(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 胡小輝 申請(qǐng)(專利權(quán))人 蘇州辰軒光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州隆恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 周子軼
地址 215127江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)蘇虹中路39號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)一種壓附裝置的第三承載臺(tái),用于承載預(yù)貼有背面滴蠟的晶片的承載工件,其包括:上盤、下盤、第三加熱機(jī)構(gòu)和冷卻機(jī)構(gòu),所述上盤和所述下盤上下對(duì)應(yīng)設(shè)置,所述上盤的正面用于承托所述承載工件,所述上盤的背面用于與所述下盤的正面相抵接,所述第三加熱機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述上盤上,所述冷卻機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述上盤和所述下盤上,所述第三加熱機(jī)構(gòu)用于對(duì)所述承載工件和所述晶片之間的蠟進(jìn)行加熱,所述冷卻機(jī)構(gòu)用于對(duì)所述承載工件和所述晶片之間的蠟進(jìn)行冷卻。本方案具有提高晶片壓附效果、提高生產(chǎn)效率、減少安裝空間等優(yōu)點(diǎn)。