一種測(cè)試電路的穩(wěn)壓芯片及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011176085.0 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN112349703A 公開(公告)日 2021-02-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN112349703A 申請(qǐng)公布日 2021-02-09
分類號(hào) H01L23/552(2006.01)I; 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 段戀 申請(qǐng)(專利權(quán))人 廣州寶創(chuàng)集成電路設(shè)計(jì)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 佛山卓就專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 陳雪梅
地址 510700廣東省廣州市黃埔區(qū)中新廣州知識(shí)城九佛建設(shè)路333號(hào)自編727室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種測(cè)試電路的穩(wěn)壓芯片,包括襯底,所述襯底的底端連接有外延邊,所述外延邊的一端均勻嵌入安裝有負(fù)電極,所述外延邊的另一端對(duì)應(yīng)負(fù)電極位置處均勻嵌入安裝有正電極,所述襯底的外側(cè)連接有抗干擾層,所述抗干擾層的外側(cè)連接有保護(hù)層,所述保護(hù)層的頂端對(duì)稱開設(shè)有凹槽,所述抗干擾層的內(nèi)部均勻嵌入安裝有抗干擾顆粒,本發(fā)明結(jié)構(gòu)科學(xué)合理,使用安全方便,通過設(shè)置的保護(hù)層、抗干擾層和抗干擾顆粒,能夠?qū)π酒c外界進(jìn)行隔離,對(duì)芯片進(jìn)行防護(hù),并可提高芯片的抗電磁干擾能力,通過晶圓表面涂覆兩次厚度為0.1mm的光阻薄膜,能夠增加光阻薄膜的均勻程度,避免光阻薄膜厚度不均,導(dǎo)致晶圓光刻出現(xiàn)的次品和廢品過多。??