一種流動水紫外線殺菌消毒單元
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202011467089.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113044915A | 公開(公告)日 | 2021-06-29 |
| 申請公布號 | CN113044915A | 申請公布日 | 2021-06-29 |
| 分類號 | C02F1/32 | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
| 發(fā)明人 | 方兵;武帥;慕永剛 | 申請(專利權(quán))人 | 青島杰生電氣有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 青島聯(lián)智專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 周永剛 |
| 地址 | 266101 山東省青島市嶗山區(qū)九水路621號院士智谷E-2座2層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種流動水紫外線殺菌消毒單元,包括殺菌組件、深紫外光源組件和殼體;所述殺菌組件包括殺菌腔體、進水口和出水口,所述殺菌腔體為圓柱型腔體結(jié)構(gòu),所述殺菌腔體的內(nèi)壁形成用于漫反射紫外光的表面;所述進水口,其開設(shè)在所述殺菌腔體的第一端;所述出水口,其開設(shè)在所述殺菌腔體的第二端;所述深紫外光源組件包括第一深紫外光源模塊和第二深紫外光源模塊,所述第一深紫外光源模塊設(shè)置在所述殺菌腔體第一端;所述第二深紫外光源模塊設(shè)置在所述殺菌腔體第二端;所述殺菌腔體設(shè)置在所述殼體內(nèi)。本發(fā)明提供一種適應(yīng)大水流工況使用且殺菌率高的深紫外線殺菌單元。 |





