一種適用于大尺寸及超薄玻璃的鍍膜工藝及設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210152183.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103422061B 公開(kāi)（公告）日 2016-01-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN103422061B 申請(qǐng)公布日 2016-01-27
分類號(hào) C23C14/34(2006.01)I;C03C17/00(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 姜翠寧 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市正星光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)福永街道大洋路南側(cè)2棟一、二樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種適用于大尺寸及超薄玻璃的鍍膜工藝及鍍膜設(shè)備，該鍍膜工藝采取設(shè)備雙面設(shè)置靶位，但是雙面可設(shè)置不同類型不同數(shù)量的靶位，通過(guò)選擇合適的傾斜角度，設(shè)備兩面均可做傾斜設(shè)計(jì)，其傾斜方式是以垂直于水平面的腔體的中心軸線為中心，設(shè)備的關(guān)鍵部位分別向兩側(cè)傾斜相同的角度，其關(guān)鍵部件為陰極靶位和承載玻璃的基片架，陰極靶位與基片架上裝載玻璃的框架傾斜同樣的角度，這樣保證玻璃基板在鍍膜時(shí)與靶面平行，靶基距一致，這種設(shè)計(jì)適合大尺寸超薄玻璃，產(chǎn)量高、設(shè)備雙面可同時(shí)完成不同類型產(chǎn)品，解決了現(xiàn)有技術(shù)設(shè)備無(wú)法高質(zhì)量的生產(chǎn)大尺寸超薄玻璃、含蓋產(chǎn)品范圍窄，對(duì)于特殊產(chǎn)品效率低、不利于產(chǎn)品拓展的弊端。