高透過、低反射的功能部件及其制備方法和應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111195124.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114114727A 公開（公告）日 2022-03-01
申請公布號 CN114114727A 申請公布日 2022-03-01
分類號 G02F1/13（2006.01）I;C03C15/00（2006.01）I;C03C21/00（2006.01）I;C03C17/34（2006.01）I 分類 光學;
發(fā)明人 李可峰 申請（專利權）人 維達力科技股份有限公司
代理機構 華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 代理人 黎金娣
地址 437300湖北省咸寧市赤壁市經濟開發(fā)區(qū)中伙光谷產業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種高透過、低反射的功能部件及其制備方法應用。該功能部件的制備方法包括如下步驟：提供基材和具有微納米尺寸的三維立體結構的微納紋理模板；在基材上施加轉印UV膠；將微納紋理模板施加在轉印UV膠上，再通過UV固化制備過渡膠層，移除微納紋理模板，制備中間體；采用蝕刻等離子源對中間體進行等離子蝕刻，以去除基材表面需要蝕刻區(qū)域的過渡膠層，并在基材的表面蝕刻出微納結構；采用射率為1.0～2.0的材料在具有微納米尺寸的三維立體結構的基材的表面上制備減反射增透鍍層。該方法具有操作簡易、微納結構形貌可控、低成本、長效、可大批量應用的優(yōu)點，制得的功能部件具有高透過、低反射的優(yōu)勢，具有廣闊的應用前景。