在基材表面制備微納結(jié)構(gòu)的方法和表面具有微納結(jié)構(gòu)的基材及其應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111195108.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114100998A | 公開（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114100998A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-01 |
| 分類號(hào) | B05D5/00（2006.01）I;B05D5/08（2006.01）I;B05D3/06（2006.01）I;B05D3/14（2006.01）I | 分類 | 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 李可峰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 維達(dá)力科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 黎金娣 |
| 地址 | 437300湖北省咸寧市赤壁市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)中伙光谷產(chǎn)業(yè)園 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種在基材表面制備微納結(jié)構(gòu)的方法和表面具有微納結(jié)構(gòu)的基材及其應(yīng)用。包括如下步驟：提供基材和具有微納米尺寸的三維立體結(jié)構(gòu)的微納紋理模板；在所述基材上施加轉(zhuǎn)印UV膠；通過(guò)UV轉(zhuǎn)印將所述微納紋理模板施加在所述轉(zhuǎn)印UV膠上，再通過(guò)UV固化制備過(guò)渡膠層，移除所述微納紋理模板，制備中間體；采用蝕刻等離子源對(duì)所述中間體進(jìn)行等離子蝕刻，以去除所述基材表面需要蝕刻區(qū)域的過(guò)渡膠層，并在所述基材的表面蝕刻出具有微納米尺寸的三維立體結(jié)構(gòu)。該方法操作簡(jiǎn)易、微納結(jié)構(gòu)形貌可控、低成本、長(zhǎng)效、可大批量應(yīng)用的優(yōu)點(diǎn)。另外，還可以減少曝光顯影的使用，節(jié)省設(shè)備成本和制作成本。 |
