一種濺射鍍膜機的輔助冷卻系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921428056.1 申請日 -
公開（公告）號 CN210620927U 公開（公告）日 2020-05-26
申請公布號 CN210620927U 申請公布日 2020-05-26
分類號 C23C14/34;C23C14/54 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐志強;姜鈞 申請（專利權(quán)）人 承德奧斯力特電子科技有限公司
代理機構(gòu) 北京方韜法業(yè)專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 承德奧斯力特電子科技有限公司
地址 067000 河北省承德市平泉市平泉鎮(zhèn)四合園村17組
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種濺射鍍膜機的輔助冷卻系統(tǒng)，包括依次通過管道連接的儲氣罐、制冷裝置、電磁閥、流量調(diào)節(jié)閥和濺射輔助室，濺射輔助室設(shè)置在濺射真空室內(nèi)的基片運行軌道上，且至少位于第一濺射室的后方。還包括設(shè)置在濺射輔助室內(nèi)的溫度傳感器，和與溫度傳感器、電磁閥和流量調(diào)節(jié)閥連接的控制器。輔助冷卻系統(tǒng)包括兩個以上的濺射輔助室，兩個以上的濺射輔助室間隔設(shè)置在多個濺射室之間。本實用新型能實現(xiàn)對濺射鍍膜過程中基片溫度的降低，防止基片溫度太高導(dǎo)致的氧化或變色現(xiàn)象的發(fā)生，提高濺射鍍膜產(chǎn)品的外觀。還通過多個濺射輔助室的設(shè)置，實現(xiàn)對需要多次濺射鍍膜基片的多次冷卻，能更好的控制濺射鍍膜基片的溫度，保證濺射鍍膜基片的質(zhì)量。