一種SAR圖像二次散射特征模擬方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710969322.0 申請日 -
公開（公告）號 CN107607951A 公開（公告）日 2018-01-19
申請公布號 CN107607951A 申請公布日 2018-01-19
分類號 G01S13/90;G01S7/41 分類 測量；測試;
發(fā)明人 王國軍;李曉芳;劉廣全;王娜;李杰;殷幼松;薛騰飛 申請（專利權(quán)）人 浙江環(huán)球星云遙感科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 313200 浙江省湖州市德清縣武康鎮(zhèn)科源路11號1幢1101室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種SAR圖像二次散射特征模擬方法，具體步驟為：1)利用建筑物目標(biāo)的三維模型構(gòu)建三維成像場景；2)對三維成像場景中每一個三角面元賦予不同的微波散射屬性；3)利用射線追蹤算法模擬電磁波與建筑物目標(biāo)之間的相互作用過程，生成模擬回波信號；4)將形成的模擬回波信號映射到SAR圖像平面，生成二次散射特征圖像。本發(fā)明基于給定三維成像場景，模擬電磁波信號與目標(biāo)之間的兩次散射回波信號特征，生成二次散射特征模擬圖像，可滿足于建筑物目標(biāo)SAR圖像的成像機理分析、目標(biāo)識別與參數(shù)提取。