化學鍍Ni-P陽極復合鍍層結構及制備工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200910220254.3 申請日 -
公開（公告）號 CN101709460A 公開（公告）日 2010-05-19
申請公布號 CN101709460A 申請公布日 2010-05-19
分類號 C23C18/36(2006.01)I;C23C18/18(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王宙;付傳起;于媛 申請（專利權）人 大連大學表面工程中心
代理機構 大連智慧專利事務所 代理人 大連大學表面工程中心;大連大學
地址 116622 遼寧省大連市中國遼寧大連經濟技術開發(fā)區(qū)學府大街10號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種化學鍍Ni-P陽極復合鍍層結構及制備工藝，開發(fā)出具有陽極性質的復合鍍層，解決現(xiàn)有問題；本復合鍍層的工藝改進是：(1)對施鍍的配方比例作了改進，增加二次施鍍。(2)鍍液的配置：硫酸鎳(g/l)：10％-30％，次亞磷酸鈉(g/l)：26％-36％，蘋果酸(g/l)：15％，檸檬酸(g/l)：2％-10％，氨基乙酸(g/l)：2-6％，乳酸(ml/l)：10-15％，乙二氨(g/l)：4-6％，pH值：4.5-8，溫度(℃)：65-90。在3％NaCl溶液中和在2MHCl溶液中的腐蝕速度，復合鍍層與內層高電位鍍層相比分別降低了6.1905倍和18.889倍；由于控制鍍液的PH值和螯合劑的類型，有效控制了鍍層成分結構；工藝穩(wěn)定、操作簡便、投資少、易于自動化控制和批量生產。