一種溝槽肖特基勢(shì)壘二極管及其制造方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810767802.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN109065637A | 公開(公告)日 | 2021-07-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN109065637A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-16 |
| 分類號(hào) | H01L29/872;H01L21/329 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 周炳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 張家港意發(fā)功率半導(dǎo)體有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 江蘇致邦律師事務(wù)所 | 代理人 | 閆東偉 |
| 地址 | 215600 江蘇省蘇州市張家港經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)(國泰北路1號(hào)留學(xué)生創(chuàng)業(yè)園) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種溝槽肖特基勢(shì)壘二極管,包括中部的有源區(qū)和環(huán)繞有源區(qū)的截止區(qū),所述有源區(qū)自下而上依次設(shè)有N型襯底層、N型外延層、柵氧化層、肖特基金屬層、陽極金屬層、陰極金屬層;所述N型外延層上設(shè)有若干溝槽和凸臺(tái),所述溝槽和凸臺(tái)橫向間隔設(shè)置,在凸臺(tái)的柵氧化層和陽極金屬層之間沉積有BPSG緩沖層,在溝槽內(nèi)填充有磷摻雜導(dǎo)電多晶硅層,所述溝槽深度1.3μm,溝槽寬度0.5μm,溝槽間距1.5μm以及溝槽內(nèi)氧化物的厚度1000?。本發(fā)明通過控制溝槽的形狀、溝槽深度、溝槽間有源區(qū)的寬度、溝槽內(nèi)氧化層的厚度,得到了一種反向漏電低,電壓反向阻斷能力佳,可靠性好的溝槽肖特基勢(shì)壘二極管。本發(fā)明還公開了一種溝槽肖特基勢(shì)壘二極管的制造方法,其步驟少,制造成本低。 |





