一種FRD芯片
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022964312.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN213988893U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-08-17 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213988893U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-17 |
| 分類號(hào) | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I;H01L23/29(2006.01)I;H01L29/868(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 周炳;趙承杰;王源政 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 張家港意發(fā)功率半導(dǎo)體有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州國(guó)誠(chéng)專利代理有限公司 | 代理人 | 王麗 |
| 地址 | 215600江蘇省蘇州市張家港經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)(國(guó)泰北路1號(hào)留學(xué)生創(chuàng)業(yè)園) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種FRD芯片,包括陰極金屬,陰極金屬上設(shè)置有N+陰極層,N+陰極層上設(shè)置有N型基片,N型基片上設(shè)置有N?外延層,N?外延層上設(shè)置有I基片,I基片上設(shè)置有P基片,N?外延層上設(shè)置有氧化層,氧化層上設(shè)置有與P基片接觸的陽(yáng)極金屬。能夠保證整個(gè)芯片的性能穩(wěn)定,同時(shí),提高運(yùn)行速度,降低了集電極電阻,且使得芯片能承受更高的反向工作電壓。 |





