一種光學(xué)鍍膜機(jī)以及融料保護(hù)罩
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021697255.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212833998U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-30 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212833998U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-30 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/30(2006.01)I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 官敏 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 武漢銳晶激光芯片技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉天虹 |
| 地址 | 430000湖北省武漢市未來(lái)科技城A5北C1棟902室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光學(xué)鍍膜機(jī)以及融料保護(hù)罩，光學(xué)鍍膜機(jī)包括真空室、坩堝、融料加熱裝置和融料保護(hù)罩，坩堝、融料加熱裝置和融料保護(hù)罩均位于真空室中，融料保護(hù)罩罩扣于坩堝上，真空室上設(shè)有觀察窗；融料保護(hù)罩包括頂蓋和多塊非磁性擋板，多塊非磁性擋板分別與頂蓋的邊緣連接、構(gòu)成罩體，多塊非磁性擋板圍成一個(gè)至少一面開(kāi)口的多面體圍擋，坩堝位于多面體圍擋中，多面體圍擋的至少一個(gè)開(kāi)口面向觀察窗。本申請(qǐng)通過(guò)在光學(xué)鍍膜機(jī)的坩堝上設(shè)置融料保護(hù)罩，靶材融料過(guò)程產(chǎn)生的細(xì)微粉末和飛濺膜料通過(guò)融料保護(hù)罩可以約束擴(kuò)散方向以便減少對(duì)腔室的污染，更利于清潔，從而使真空腔室內(nèi)的潔凈度更高，提升鍍膜產(chǎn)品良率。?? |
