一種減少過(guò)敏反應(yīng)的頭孢唑肟鈉新晶型及其制劑
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610137387.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN105622635B | 公開(kāi)(公告)日 | 2017-03-15 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN105622635B | 申請(qǐng)公布日 | 2017-03-15 |
| 分類號(hào) | C07D501/20(2006.01)I;C07D501/12(2006.01)I;A61K31/546(2006.01)I;A61P31/04(2006.01)I;A61P11/00(2006.01)I;A61P1/16(2006.01)I;A61P13/00(2006.01)I;A61P7/00(2006.01)I;A61P17/00(2006.01)I;A61P25/00(2006.01)I;A61P15/00(2006.01)I;A61P19/00(2006.01)I | 分類 | 有機(jī)化學(xué)〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 蔣晨;胡昌勤;周曉東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 福安藥業(yè)集團(tuán)慶余堂制藥有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 401121 重慶市渝北區(qū)黃楊路2號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種可減少過(guò)敏反應(yīng)的頭孢唑肟鈉化合物晶型、制備方法及其藥物制劑。所述頭孢唑肟鈉采用X?射線粉末衍射法測(cè)定,以2θ±0.2°衍射角表示的X射線粉末衍射圖譜在6.8°、11.5°、14.6°、15.8°、19.4°、20.2°、21.8°、24.0°、27.4°和30.5°處顯示出特征衍射峰。本發(fā)明的頭孢唑肟鈉化合物雜質(zhì)含量比現(xiàn)有技術(shù)明顯降低,且具有良好的穩(wěn)定性、流動(dòng)性、不易吸濕、溶解速度快,并且臨床效果好,不良反應(yīng)發(fā)生率低,非常適合臨床應(yīng)用。 |





