管式清洗設(shè)備以及光伏鍍膜系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110205996.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113000487B 公開（公告）日 2022-04-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN113000487B 申請(qǐng)公布日 2022-04-26
分類號(hào) B08B5/02（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I;H01L31/18（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 奚明;胡兵;陽(yáng)詩(shī)友;吳紅星;劉鋒;王祥;袁剛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 理想晶延半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海恒銳佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 黃海霞
地址 201620上海市松江區(qū)思賢路3255號(hào)3幢402
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種管式清洗設(shè)備，包括筒形腔體以及設(shè)置于所述筒形腔體的清洗供氣部。本發(fā)明的所述管式清洗設(shè)備中，所述清洗供氣部包括的若干出氣口的一部分朝向所述筒形腔體的同一組成部分設(shè)置以使提供的清洗氣體形成主噴射軌跡，另一部分朝向所述主噴射軌跡設(shè)置，有利于通過(guò)自不同出氣口噴射的清洗氣體相互之間形成擾流，對(duì)所述筒形腔體內(nèi)不同部位，特別是遠(yuǎn)離所述若干出氣口部位的清洗氣體濃度起到增強(qiáng)及擾動(dòng)作用，從而實(shí)現(xiàn)清洗氣體在筒形腔體內(nèi)的再混合以及提高待清洗器件和清洗氣體的接觸面積來(lái)提高清洗效率。本發(fā)明還提供了包含所述管式清洗設(shè)備的光伏鍍膜系統(tǒng)。