適用于制備低電阻薄膜的石墨載具

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122935859.X 申請日 -
公開（公告）號 CN216378390U 公開（公告）日 2022-04-26
申請公布號 CN216378390U 申請公布日 2022-04-26
分類號 C23C16/458（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱家寬;張開江;陸勇;戴虹;鐘文兵;孫海晨 申請（專利權(quán)）人 理想晶延半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
代理機構(gòu) 上海恒銳佳知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 黃海霞
地址 201620上海市松江區(qū)思賢路3255號3幢402
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種適用于制備低電阻薄膜的石墨載具，包括連接組件、固定件和第一連接桿；所述固定件包括若干第一固定件和若干第二固定件，且所述若干第一固定件和所述若干第二固定件的兩端部分別與所述連接組件連接；所述第一連接桿貫穿連接所述若干第一固定件和所述若干第二固定件，且所述第一連接桿與所述若干第一固定件和所述若干第二固定件中的任意一種接觸設(shè)置，所述第一固定件和所述第二固定件交替設(shè)置。該石墨載具解決了在低電阻薄膜制備過程中所述第一固定件和所述第二固定件電位相同，無法引起輝光放電，導(dǎo)致鍍膜減慢或中止的問題。