一種抗靜電的AR膜及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110455297.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112987135A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-06-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112987135A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-18 |
| 分類號(hào) | G02B1/11;G02B1/111;G02B1/16 | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 胡業(yè)新;于佩強(qiáng);高毓康;宋尚金 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇日久光電股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州科仁專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 郭楊 |
| 地址 | 215300 江蘇省蘇州市昆山市周莊鎮(zhèn)錦周公路509號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種抗靜電的AR膜及其制備方法，包括基材層，所述基材層的雙面通過(guò)涂布工藝分別設(shè)有上底涂層和下底涂層，所述上底涂層和下底涂層上通過(guò)涂布工藝分別設(shè)有上IM層和下IM層，所述上IM層上通過(guò)涂布工藝設(shè)有AR樹(shù)脂層，所述AR樹(shù)脂層上通過(guò)磁控濺射工藝鍍?cè)O(shè)有上鍍層，所述上鍍層上貼設(shè)有上CPP保護(hù)膜，所述下IM層上通過(guò)磁控濺射工藝鍍?cè)O(shè)有下鍍層，所述下鍍層上貼設(shè)有下CPP保護(hù)膜，可將基材透過(guò)率從89%提高到99%以上，并且可以廣泛適用于各種PET基材以及玻璃基材上，表面阻抗達(dá)到10+6ohm，抗靜電果佳效。 |
