一種進行測量光譜與庫光譜匹配的方法及其設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410016003.4 申請日 -
公開（公告）號 CN104778181B 公開（公告）日 2018-08-10
申請公布號 CN104778181B 申請公布日 2018-08-10
分類號 G06F17/30 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 陳慧萍;施耀明;徐益平 申請（專利權）人 上海興橙投資管理有限公司
代理機構(gòu) 北京市金杜律師事務所 代理人 睿勵科學儀器（上海）有限公司
地址 201203 上海市浦東新區(qū)華佗路68號張江創(chuàng)業(yè)園6幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種在光學關鍵尺寸測量設備中進行測量光譜與庫光譜匹配的方法，其中：A.根據(jù)已知的樣品信息建立樣品形貌模型M；B.獲取被測樣品的各個測量光譜Sn并求出平均測量光譜S0；C.求出所述各個測量光譜Sn與所述平均測量光譜S0間的均方差MSE，最大的均方差MSEm所對應的測量光譜為最遠測量光譜Sm；D.根據(jù)所述平均測量光譜S0和最遠測量光譜Sm確定光譜庫中參與匹配的光譜的范圍RS；E.在所述匹配范圍RS內(nèi)匹配所述各個測量光譜Sn，并得到所述各個測量光譜Sn的匹配參數(shù)Pn。