一種梯度線圈及梯度線圈制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010368136.3 申請日 -
公開（公告）號 CN111505552A 公開（公告）日 2020-08-07
申請公布號 CN111505552A 申請公布日 2020-08-07
分類號 G01R33/385 分類 -
發(fā)明人 劉曙光;王利鋒;晏煥華 申請（專利權(quán)）人 聯(lián)影（常州）醫(yī)療科技有限公司
代理機構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 聯(lián)影（常州）醫(yī)療科技有限公司
地址 213125 江蘇省常州市新北區(qū)奧園路6號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于磁共振成像及應用技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種梯度線圈及梯度線圈制造方法。該梯度線圈包括：相互連接的主梯度線圈和屏蔽梯度線圈，主梯度線圈和屏蔽梯度線圈中每層線圈均通過導體纏繞形成，主梯度線圈和屏蔽梯度線圈中至少一層線圈為雙層導體結(jié)構(gòu)。該梯度線圈用雙層導體結(jié)構(gòu)，其產(chǎn)生的梯度場的耦合疊加，可以實現(xiàn)在相同電流情況下，比單層線圈高出1.5倍?2倍的梯度強度，從而可以用于磁共振成像的一些高級序列應用。另外，可以提供了更多線圈設計自由度,通過優(yōu)化的設計算法，雙層導體結(jié)構(gòu)分布可以更精確地逼近理想梯度電流分布,產(chǎn)生更準確的梯度磁場，可以實現(xiàn)更高的梯度線性度，從而使磁共振掃描圖像更清楚準確。