一種VCSEL結(jié)構(gòu)
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111357672.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN114204415A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114204415A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-18 |
| 分類號(hào) | H01S5/183(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 方照詒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳市嘉敏利光電有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市道勤知酷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 何兵 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市福田區(qū)福保街道福保社區(qū)紅柳道2號(hào)順豐工業(yè)廠房1層B125 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種VCSEL結(jié)構(gòu),包括襯底、電極接觸層、下DBR、有源區(qū)、上DBR,其中,所述上DBR內(nèi)的光學(xué)路徑上的堆疊結(jié)構(gòu)由中Al含量的低折射率材質(zhì)Al2O3由AlxGa1?xAs經(jīng)氧化工藝形成Al2O3/AlyGa1?yAs組成,諧振腔光學(xué)路徑外側(cè)的導(dǎo)通路徑由歐姆金屬取代Al2O3形成低電阻路徑及光局限,所述堆疊結(jié)構(gòu)與所述歐姆金屬組成的組合層的上下兩側(cè)由AlxGa1?xAs組成并形成DBR結(jié)構(gòu)中高折射率的部分,所述有源區(qū)的上方設(shè)有電流孔徑,所述電流孔徑由AlzGa1?zAs組成并形成DBR結(jié)構(gòu)中高折射率的部分,其中,x>z>y。 |





