一種碳化硅涂層生產(chǎn)用化學(xué)氣相沉積爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021030767.6 申請日 -
公開（公告）號 CN212770951U 公開（公告）日 2021-03-23
申請公布號 CN212770951U 申請公布日 2021-03-23
分類號 C23C16/458(2006.01)I;C23C16/32(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 賀鵬博;周帆 申請（專利權(quán)）人 湖南鎧欣新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 長沙軒榮專利代理有限公司 代理人 張勇
地址 413000湖南省益陽市高新區(qū)東部產(chǎn)業(yè)園標(biāo)準(zhǔn)化廠房E區(qū)E1棟北側(cè)一半
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種碳化硅涂層生產(chǎn)用化學(xué)氣相沉積爐。碳化硅涂層生產(chǎn)用化學(xué)氣相沉積爐，包括：爐體；兩個支撐桿，兩個所述支撐桿均設(shè)于所述爐體內(nèi)；兩個安裝板，兩個所述安裝板固定安裝在兩個支撐桿的頂端和底端；兩個螺紋桿，兩個所述螺紋桿均轉(zhuǎn)動安裝在兩個所述安裝板上。本實(shí)用新型提供的碳化硅涂層生產(chǎn)用化學(xué)氣相沉積爐具有能夠?qū)軤罨w進(jìn)行有效的固定同時(shí)也能夠避免支承裝置不與管狀基體需要沉積碳化硅涂層的外表面不與接觸而完全裸露出來、使碳化硅涂層沉積均勻而不遺漏、提高產(chǎn)品的性能、可使輸送的氣體原材料能夠均勻地分布、提高沉積速率、提高碳化硅涂層的致密性和均勻性、提高產(chǎn)品質(zhì)量的優(yōu)點(diǎn)。??