一種基于極坐標(biāo)矢量計(jì)算光刻模型的方法及裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911288282.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110703438B 公開（公告）日 2020-04-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN110703438B 申請(qǐng)公布日 2020-04-17
分類號(hào) G02B27/00;G03F7/20 分類 光學(xué);
發(fā)明人 陳雪蓮;周潔云;崔紹春 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 墨研計(jì)算科學(xué)（南京）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 墨研計(jì)算科學(xué)（南京）有限公司
地址 210031 江蘇省南京市江北新區(qū)星火路9號(hào)軟件大廈B座407-80室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)的光刻工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種基于極坐標(biāo)矢量計(jì)算光刻模型的方法及裝置。本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N基于極坐標(biāo)矢量計(jì)算光刻模型的方法，包括：確定光源的極化類型；基于所述極化類型，建立進(jìn)入光瞳的入射光線場(chǎng)強(qiáng)的傳輸矩陣，所述傳輸矩陣描述入射光線場(chǎng)強(qiáng)的傳輸變化；基于所述光源的極化類型和所述入射光線場(chǎng)強(qiáng)的傳輸關(guān)系，建立矢量計(jì)算光刻模型得到描述物理光學(xué)的多個(gè)交叉?zhèn)鬟f函數(shù)；基于所述物理光學(xué)的多個(gè)交叉?zhèn)鬟f函數(shù)計(jì)算矢量光刻模型在光阻層上的光強(qiáng)分布。