一種計算光刻建模方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910385455.2 申請日 -
公開（公告）號 CN110262191A 公開（公告）日 2021-06-08
申請公布號 CN110262191A 申請公布日 2021-06-08
分類號 G03F7/20;G06F17/50 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 崔紹春 申請（專利權(quán)）人 墨研計算科學(xué)（南京）有限公司
代理機構(gòu) 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 逯長明;許偉群
地址 215000 江蘇省蘇州市姑蘇區(qū)友聯(lián)新村74-407
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種計算光刻建模方法及裝置，在該方法中，通過獲取測試圖形包含的圖形單元的類型，確定光學(xué)模塊組，然后根據(jù)光學(xué)模塊組，獲取物理光學(xué)模型的參數(shù)。計算光學(xué)模塊組在光刻膠上的理想光強分布，并根據(jù)理想光強分布以及光學(xué)模塊組在所述光刻膠上激發(fā)的光化學(xué)反應(yīng)，獲取光化學(xué)模型的參數(shù)。接著模擬測試圖形在所述光刻膠上形成的邊界位置，并獲取所述測試圖形的關(guān)鍵尺寸仿真數(shù)據(jù)，若關(guān)鍵尺寸測量數(shù)據(jù)與關(guān)鍵尺寸仿真數(shù)據(jù)之間的擬合誤差不大于預(yù)設(shè)的容許誤差，則建立計算光刻模型。本申請公開的計算光刻建模方法，通過建立不同的光學(xué)模塊對不同的圖形單元進(jìn)行仿真，有效提高了計算光刻模型的精度。