一種基于多目標(biāo)優(yōu)化的光刻工藝分辨率增強方法及裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201911123888.7 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN110597023B | 公開(公告)日 | 2020-03-17 |
| 申請公布號 | CN110597023B | 申請公布日 | 2020-03-17 |
| 分類號 | G03F7/20 | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 周潔云;崔紹春;陳雪蓮 | 申請(專利權(quán))人 | 墨研計算科學(xué)(南京)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 墨研計算科學(xué)(南京)有限公司 |
| 地址 | 210031 江蘇省南京市江北新區(qū)星火路9號軟件大廈B座407-80室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本申請涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)的光刻工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種基于多目標(biāo)優(yōu)化的光刻工藝分辨率增強方法及裝置。本申請?zhí)峁┮环N基于多目標(biāo)優(yōu)化的光刻工藝分辨率增強方法,包括以下步驟:通過劃分多個圓重疊的方法得到照明光源的區(qū)域劃分用于優(yōu)化光源;確定亞分辨率輔助圖形SRAF位置變量的初始位置用于優(yōu)化掩膜;使用實數(shù)編碼的方法建立優(yōu)化變量的種群;對種群中單一染色體通過計算光刻模型確定多目標(biāo)優(yōu)化策略的評價標(biāo)準(zhǔn)函數(shù);使用遺傳進化算法對當(dāng)前種群重復(fù)進行“評價?選擇?交叉?變異”計算,獲得評價標(biāo)準(zhǔn)函數(shù)的迭代更新;通過解碼最終種群得到多目標(biāo)優(yōu)化策略的解集帕累托支撐解。 |





