一種計算光刻中掩模版的處理方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910072613.9 申請日 -
公開（公告）號 CN109656106B 公開（公告）日 2020-12-04
申請公布號 CN109656106B 申請公布日 2020-12-04
分類號 G03F7/20 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 閻江;梁文青 申請（專利權）人 墨研計算科學（南京）有限公司
代理機構 北京弘權知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 墨研計算科學（南京）有限公司
地址 210031 江蘇省南京市江北新區(qū)星火路9號軟件大廈B座407-80室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種計算光刻中掩模版的處理方法及裝置，在所述方法中，通過多邊形的頂點數(shù)據，獲取多邊形中邊的長度以及方向，并根據所述邊的長度以及方向定義多邊形的數(shù)據格式，令掩模版圖形按照所述數(shù)據格式進行存儲、讀取以及傳輸。相較于現(xiàn)有技術，本申請公開的方法，通過對掩模版圖形中多邊形的邊進行存儲，有效的減小了掩模版圖形的存儲空間，并使得掩模版圖形的數(shù)據在計算機程序之間能夠實現(xiàn)快速讀取以及傳輸。并且，在獲取掩模版圖形函數(shù)時，基于多邊形中邊的方向，對基本圖形函數(shù)進行線性組合，提高計算光刻的效率。