一種低彩虹紋聚酯薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910233756.3 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN109943027B 公開（公告）日 2021-04-20
申請公布號(hào) CN109943027B 申請公布日 2021-04-20
分類號(hào) C08G63/183(2006.01)I;C08G63/85(2006.01)I;C08L69/00(2006.01)I;C08G63/86(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;C08L33/12(2006.01)I;B32B37/10(2006.01)I;C08L67/00(2006.01)I;C08K5/526(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08L67/02(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 李明勇;王強(qiáng);李宇航;程凡寶;梁雪芬;徐正揚(yáng) 申請（專利權(quán)）人 江蘇東材新材料有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京一格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 徐文
地址 226600江蘇省南通市海安縣城東鎮(zhèn)開發(fā)大道（中）28號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種低彩虹紋聚酯薄膜及其制備方法，所述低彩虹紋聚酯薄膜是由聚酯和表面改性料的混合料經(jīng)熔融混煉后擠出、鑄片、再縱橫雙向拉伸、熱定型而制成；所述聚酯選用特性粘度為0.62～0.68dL/g、熔點(diǎn)為255～265℃、分子量為20000～30000的聚酯；所述表面改性料選用粘度為0.60～0.75dL/g的表面改性材料，且所述表面改性料由質(zhì)量百分比0.2％～10％的納米材料和99.8％～90％的分子量為20000～30000的共聚酯組成。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：本發(fā)明生產(chǎn)工藝簡單，且制備出低彩虹紋薄膜具有良好的光學(xué)性能和優(yōu)異加工性能，尤其適用于各種光學(xué)顯示器件領(lǐng)域的導(dǎo)電膜、保護(hù)膜和離型膜等。??