一種用于射線劑量測量的探測器矩陣裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020137018.7 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211698222U | 公開（公告）日 | 2020-10-16 |
| 申請公布號 | CN211698222U | 申請公布日 | 2020-10-16 |
| 分類號 | G01T1/185(2006.01)I;G01T1/02(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 陳立新;胡強;雷強;黃欠平;何波 | 申請（專利權）人 | 廣州瑞多思醫(yī)療科技有限公司 |
| 代理機構 | 廣州新諾專利商標事務所有限公司 | 代理人 | 廣州瑞多思醫(yī)療科技有限公司 |
| 地址 | 510663廣東省廣州市黃埔區(qū)科學大道33號自編五棟401（部位：401、403、405、407房） | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了一種用于射線劑量測量的探測器矩陣裝置，包括設置有多個電離室的電離室板和對稱設置在所述電離室板兩側的上蓋板和下蓋板；所述電離室的中心到所述上蓋板遠離所述電離室板的一面的等效水厚度，與所述電離室的中心到所述下蓋板遠離所述電離室板的一面的等效水厚度相同。本實用新型通過對稱設計，使得電離室中心至上下蓋板的等效水厚度保持一致，從而得到正反面一致的建成區(qū)，在加速器360度環(huán)繞照射下，能夠得到有效真實的數據，并不需要通過外部裝置或數據擬合得到反面照射數據，同時采用電離室探測器替代半導體探測器，使其解決半導體探測器長期穩(wěn)定性差的問題，保證劑量測量的準確性。?? |
