一種LCOS表面微支撐結(jié)構(gòu)及其加工方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210035760.0 申請日 -
公開（公告）號 CN114047647A 公開（公告）日 2022-02-15
申請公布號 CN114047647A 申請公布日 2022-02-15
分類號 G02F1/133（2006.01）I;G02F1/1333（2006.01）I;G02F1/1339（2006.01）I;G02F1/1341（2006.01）I;G02F1/1343（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 孫雷;張婧姣 申請（專利權(quán)）人 南京數(shù)字光芯科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京沁優(yōu)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周慶路
地址 100000北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)中和街14號2幢2層A2079號（集中辦公區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種LCOS表面微支撐結(jié)構(gòu)及其加工方法，包括CMOS基板、封裝基板和設(shè)置在二者之間的取向?qū)?，所述封裝基板上靠近所述取向?qū)拥囊粋?cè)設(shè)有透明電極，所述CMOS基板上靠近所述取向?qū)拥囊粋?cè)設(shè)有金屬電極，所述金屬電極用于反射入射光線并和所述透明電極之間形成導(dǎo)通電勢，所述取向?qū)影ǔ跏紤B(tài)和偏轉(zhuǎn)態(tài)兩個狀態(tài)，當(dāng)所述取向?qū)犹幱诔跏紤B(tài)時，不改變?nèi)肷涔獾钠穹较?，?dāng)所述取向?qū)犹幱谄D(zhuǎn)態(tài)時，經(jīng)過取向?qū)拥娜肷涔獾钠穹较蛐D(zhuǎn)90度，所述CMOS基板和所述封裝基板之間設(shè)有微支撐結(jié)構(gòu)，且所述微支撐結(jié)構(gòu)設(shè)置在若干金屬電極的交點(diǎn)處，微支撐結(jié)構(gòu)的設(shè)置能夠有效改善LCOS的液晶盒厚，提高了LCOS的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性和成像質(zhì)量。