一種塑料基底硬質減反射膜及其鍍膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> 2020115136866 申請日 -
公開（公告）號 CN112251720A 公開（公告）日 2021-01-22
申請公布號 CN112251720A 申請公布日 2021-01-22
分類號 C23C14/30(2006.01)I; 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 原清海;王奔;謝雨江 申請（專利權）人 上海米蜂激光科技有限公司
代理機構 北京清大紫荊知識產權代理有限公司 代理人 李思瓊;馮振華
地址 200136上海市浦東新區(qū)泥城鎮(zhèn)飛渡路55號3幢廠房A、B單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種塑料基底硬質減反射膜及其鍍膜方法，該鍍膜方法包括以光學塑料為基底，交替沉積TiO2和SiON；TiO2采用電子束蒸發(fā)沉積，SiON采用磁控濺射沉積。該反射膜的鍍膜裝置包括真空腔體，真空腔體底部設置電子束蒸發(fā)鍍膜裝置，還包括設置于真空腔體外的旋轉裝置和磁控濺射鍍膜裝置，磁控濺射鍍膜裝置與旋轉裝置固定連接，旋轉裝置驅動磁控濺射鍍膜裝置做轉動升降式運動，使磁控濺射鍍膜裝置能夠移入和/或移出真空腔體。本發(fā)明的鍍膜方法能夠制得以光學塑料為基底的高硬度、低反射率高透射率的硬質減反射膜。??