一種聚甲基丙烯酸甲酯基底介質(zhì)增透膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011408757.6 申請日 -
公開（公告）號 CN112553585A 公開（公告）日 2021-03-26
申請公布號 CN112553585A 申請公布日 2021-03-26
分類號 C23C14/22(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I;G02B1/115(2015.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 謝雨江;原清海;林兆文;王奔 申請（專利權(quán)）人 上海米蜂激光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京清大紫荊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 李思瓊;馮振華
地址 200136上海市浦東新區(qū)泥城鎮(zhèn)飛渡路55號3幢廠房A、B單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種聚甲基丙烯酸甲酯基底介質(zhì)增透膜及其制備方法，該增透膜的膜系結(jié)構(gòu)為：Sub/M/H/L/A；其中，Sub為PMMA基底層，M為Al2O3過渡層，H為Ta2O5高折射率膜層，L為SiO2低折射率膜層，A為空氣層。該制備方法中利用磁控濺射方式制備PMMA基底上的過渡層，使過渡層實(shí)現(xiàn)了基底與后續(xù)功能層的穩(wěn)定連接，同時(shí)利用電子束蒸發(fā)、離子束輔助方式制備功能層，極大地改善了后續(xù)功能層的應(yīng)力狀態(tài)，有效的解決了PMMA基底與膜層熱膨脹系數(shù)差異導(dǎo)致的脫膜、機(jī)械強(qiáng)度低等問題。本發(fā)明制備的PMMA基底增透膜能夠在940nm波段獲得極高的透過率，具有可操作性強(qiáng)、制備工藝重復(fù)性好、產(chǎn)品質(zhì)量優(yōu)良等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于光電系統(tǒng)等領(lǐng)域。??