商標進度
商標申請
2007-08-15
初審公告
2009-12-13
已注冊
2010-03-14
4
終止
2030-03-13
商標詳情
| 商標 |
R
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| 商標名稱 | RESOPOWER | 商標狀態(tài) | 商標已注冊 |
| 申請日期 | 2007-08-15 | 申請/注冊號 | 6221427 |
| 國際分類 | 01類-化學原料 | 是否共有商標 | 否 |
| 申請人名稱（中文） | 湖南五江高科技材料有限公司 | 申請人名稱（英文） | - |
| 申請人地址（中文） | 湖南省婁底市經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)群樂街北側(cè)、南北三路西側(cè) | 申請人地址（英文） | - |
| 商標類型 | 商標轉(zhuǎn)讓---核準證明打印發(fā)送 | 商標形式 | - |
| 初審公告期號 | 1195 | 初審公告日期 | 2009-12-13 |
| 注冊公告期號 | 6221427 | 注冊公告日期 | 2010-03-14 |
| 優(yōu)先權日期 | - | 代理/辦理機構 | 湖南匯信商標代理有限公司 |
| 國際注冊日 | - | 后期指定日期 | - |
| 專用權期限 | 2020-03-14-2030-03-13 | ||
| 商標公告 | - | ||
| 商品/服務 |
工業(yè)用化學品(0104)
半導體用顯像劑(0104)
制造印刷電路板用顯像劑(0104)
除去電路板及電子零件光阻液及熔接劑的化學溶劑(0104)
半導體用光阻液(膜)(0104)
去光材料(0104)
熒光粉(0104)
電路板用感光干膜(化學制劑)(0106)
感光劑(0107)
顯像劑(0107)
半導體用光阻液(膜)()
半導體用顯像劑()
除去電路板及電子零件光阻液及熔接劑的化學溶劑()
電路板用感光干膜(化學制劑)()
感光劑()
顯像劑()
制造印刷電路板用顯像劑()
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| 商標流程 |
2007-08-15
商標注冊申請---申請收文
2007-10-10
商標注冊申請---打印受理通知
2010-04-06
商標注冊申請---打印注冊證
2013-01-14
商標轉(zhuǎn)讓---申請收文
2013-01-31
商標轉(zhuǎn)讓---打印受理通知
2015-02-13
商標轉(zhuǎn)讓---核準證明打印發(fā)送
2019-07-02
商標續(xù)展---申請收文
2019-08-28
商標續(xù)展---核準通知打印發(fā)送
2021-02-01
商標轉(zhuǎn)讓---申請收文
2021-05-28
商標轉(zhuǎn)讓---核準證明打印發(fā)送 |
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